2月3日盘后消息，光刻胶概念报跌，捷捷微电（39.4，-5.26，-11.778%）领跌，上海新阳(41.51，-5.22，-11.171%)、南大光电(29.42，-3.6，-10.902%)、晶方科技(68.03，-7.56，-10.001%)、东方材料(43.21，-4.8，-9.998%)等跟跌。

　　光刻胶概念利好的股票有：

　　（1）、苏大维格：公司是国内领先的微纳结构产品制造和技术服务商，通过自主研发微纳光学关键制造设备——光刻机，建立了微纳光学研发与生产制造的基础技术平台体系，为客户提供不同用途微纳光学产品的设计、开发与制造服务。

　　（2）、胜利：2019年11月8日公司在互动平台称:公司参股的科华微电子是国内拥有并正常使用荷兰ASML光刻机的光刻胶公司。

　　（3）、金力泰：超微弧氧化技术可应用于光刻机设备零部件的表面处理与其他半导体芯片集成电路的表面处理上。

　　数据仅参考，不构成投资建议，据此操作，风险自担。

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